技術情報

測定方法(平面度)

JIS規格によると、「平面度とは、互いに平行な二つの平面の間の空間を表す」と規定されています。

測定方法(ラップ・ポリッシュにおける)

(A) オプチカルフラットによる測定
この原理は、完全に平坦の出た(1/5〜1/10ライトバンド)基準原器(オプチカルフラット)とワークを接触させて、そこに、短波長光源を当てることにより、光学的に干渉縞を発生させ、その干渉縞により平面度を測定するものです。つまり、ワークと光学基準原器(オプチカルフラット)との一種の比較測定となります。
面粗度が鏡面まで出ていない場合は、光学測定できませんので、(C)の方法により、測定します。
(B) レーザー干渉計による測定
(A)のオプチカルフラットによる測定では、接触式なので、どうしてもワークにキズが入ります。そこで、非接触式の測定器が開発されて、一般に実用化されています。この原理は、基本的にオプチカルフラットと同じですが、レーザービームを使用し、オプチカルフラットに反射させて、干渉縞を発生させ、それをデジタル処理、又は手動により解析させるものです。(ZYGO等)このシステムは完全に「鏡面でなくても干渉縞を起こすことができる」、「非接触なのでワークにキズが付かない」等のメリットがあります。しかし、レーザーを使用するため、当然、高価であることが欠点です。
(C) 3点ゲージによる測定
正確には光学式干渉計に勝るものはありませんが、ミクロンオーダーであれば、3点ゲージ比較測定で大まかな数字をつかむことができます。

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